ケミカル処理や枚葉スピンプロセッサを駆使し
ハイエンド品に対応。
5インチ標準サイズからG10対応サイズまで。

RCA洗浄をはじめ、
片面エッチング装置など対応。
化合物半導体の加工から洗浄まで。

大型、薄型に対応。
バーティカルプロセッサはコンパクト設計。

サブストレートから
メディアプロセスまで対応。
高品位、ハイスループットな
洗浄装置からLuberまで。

ウェットプロセスに重要な親水化処理を制御。
各種ウェットプロセスとの組み合わせによる
ハイブリッドプロセス。

薄い基板、角基板、凹凸のある基板の
フォトリソには真空方式が有効。
真空式ニュードライヤーが溶剤レス、
薄物などへ対応。

温純水ユニット、機能水供給ユニット（炭酸水・
オゾン水・水素水）、薬液自動供給ユニット、
薬液自動廃液ユニット、ドラフトチャンバー、
ロード・アンロードユニット、
ロボット搬送システムがあります。