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事業内容

半導体製造装置の開発・営業・販売

営業方針

  • 顧客満足を第一方針としております。
  • お取引についてのお願い
    • 御社生産装置のメーカーとしてのお取引
    • 御社へ納入済み装置のメンテナンス担当としてのお取引
    • 御社との技術協力による生産装置の共同開発

技術力と装置製作

  • お客様のニーズにご協力し得る技術力
    1968年以来、半導体製造装置業界(特にマスク)に参入し培った技術
    1968年以来、お客さまに装置納入し培った技術
    随時より良い装置製作を目標とし、生み出した技術
    • 1977年のバーチカル・スクラブ洗浄(特許破棄
    • 2001年の究極の差圧式スピンドライ(特許
  • 納入済みの装置の改良および保守体制へのご協力
  • 協力会のバックアップによる強力な生産体制
  • 全社一丸(少数精鋭)となっての強力な生産体制

私たちの足跡

1980年 1月 マスク両面スクラバ MS-4000
1981年 3月 マスク両面ハイプレッシャースクラバ MS-5000
1982年 12月 マスク洗浄乾燥装置 KMP-S3
1983年 12月 ウエハ用IPA乾燥機 KDA-Q-A
1983年 12月 レチクル両面スクラバ 3MS-3200
1983年 12月 コンパクトスクラバ CS-1000
1984年 12月 ディスク両面スクラバ DS-4400W
1984年 12月 ペリクルステッカ PS-1000
1985年 12月 マスク両面スクラバ MS-6000
1986年 3月 大型基板洗浄装置 KGP-S3-A
1986年 4月 レーザーダイオード洗浄装置 KLDP-5-A
1986年 12月 ディスク4面スクラバ ADS-4300D
1987年 4月 レチクル両面スクラバ(ケース収納) 3MS-3200R
1987年 9月 オートローダ AL-2000
1987年 9月 アルミナ基板洗浄装置 KCP-S4-A
1988年 7月 キャリア洗浄機 CC-2000
1988年 11月 ハイグレードクリーナ HGC-UMV-R
1989年 8月 温純水ヒーターユニット 6HXC-48-200
1990年 2月 マスク6面スクラバ KHCP-4S3-A
1990年 10月 片面エッチング装置 KEP-2SPD-A
1991年 10月 液晶大型基板洗浄装置生産開始 KGP-4S3-A
1992年 8月 液晶基板水平搬送洗浄装置 KGP-BSDN-F
1993年10月 ハードディスク洗浄装置 KDP-4-A
1994年 6月 CMP一体型洗浄装置 CWP-3SPD-A
1995年 3月 ワイヤソー後洗浄装置 CWC-5D-A
1997年 12月 ウエハ・Cuメッキ装置 スプリンクル
1998年 9月 プラネット・クリーニングシステム HGC-1V-A
1999年 4月 ディスク・スクラブ洗浄装置 CDP-2S-A
1999年 5月 SC-1供給システム
1999年 11月 ディスク・スクラブ洗浄装置 CDC-S2-A
2000年 1月 ハイグレードマスク洗浄装置 HGC-5SS4V-A
2000年 9月 バーチカル・エッチング装置 CVE-1-M
2000年 12月 ALエッチング装置 CSE-2-A
2001年 3月 バーチカルエッチング装置 CVE-1000-A
2002年 7月 デファレンシャル・エッチング装置 SCDE-1007-A
2003年 7月 1inchHDメディア・スクラブ洗浄装置 CDC-1S3V-A
2003年 9月 CBD成膜装置
2005年 4月 大型基板機能水洗浄装置 CLMC-3S4-A
2005年 7月 スピン・ケミカルステーション CWP-3+2-A
2006年 5月 HDメディア・スクラブ洗浄装置 1200PPH CDC-1S6Dv-A
2006年 8月 新片面エッチング装置 KEP-2Ds-A
2007年 マスク洗浄装置 CMC-Sp-M
2007年 ポストCMPクリーナ
2008年 エキシマUV処理装置
2008年 HDサブ・スクラブ洗浄装置 1500PPH
2008年 IPAベーパ代替ニュードライヤ
2009年 DTM対応洗浄モジュール
2010年 バーティカルウエハスクラブ洗浄装置
2011年 φ300ウエハケミカル処理装置
2013年 薄膜バーティカル洗浄装置
2014年 ウエット/ドライ ハイブリッドレチクル洗浄装置
2014年 卓上型エッチングユニット
2015年 HD新型ルブリカント装置 3600PPH
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